develop半導體、微影技術、aerial中文在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說
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2. Exposure. - exposed by aligner, stepper or scanner. - Post Exposure Bake (PEB). 3. Developing. - develop. - After Developing Inspection (ADI).
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所應用的. 圖形尺寸. (μm). G-line. 436. 0.50. 水銀燈. H-line. 405. I-line. 365. 0.35 to. 0.25. XeF. 351. XeCl. 308. 準分子雷. 射. KrF. (DUV). 248. 0.25 to.
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於1950適用於半導體工業. •圖案化製程(patterning process) ... 烤(baking) 顯影(developing) ... develop. Incomplete develop. Correct develop. Severe overdevelop ...
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